ICP-MS主要技术指标.doc
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ICP-MS主要技术指标
性能指标：
1仪器应用要求
本仪器要求能适用于应用领域广泛的各种样品的元素分析和同位素分析任务。
仪器要求符合美国环保署标准方法EPA200.8，EPA6020,英国NS30等国际标准要求
2.仪器工作环境
2.1工作环境温度：
15-30℃.
2.2工作环境湿度：
<80%（无冷凝）
电源:
powersupply单相200-240V，50Hz
3.仪器规格:
3.1仪器硬件;
3.1.1雾化器：
高耐盐，高精度，高效率同心雾化器，
3.1.2雾化室：
小死体积，低记忆效应，配置Peltier半导体制冷装置对雾化室制冷控温，雾化室制冷温度控制要求可以达到≤-100C
3.1.3接口：
Ni材料锥口，口径要求足够大，以便耐样品溶液所含的基体。
样品锥口口径1.1mm,截取锥口径0.75mm。
3.1.4质量流量计：
等离子体气，辅助气，雾化气三路质量流量计
3.1.4ICP源：
27.12MHz固体晶体稳频RF发生器,频率稳定性<±0.01%
3.1.6RF功率稳定性<0.01%
3.1.7真空系统：
3.1.7.1快速三级高真空系统：
工作时真空度<2×10-6乇，
3.1.7.2从大气压开始抽至可工作的真空度的时间小于20分钟。
3.1.8.离子光学：
低背景的离轴四极杆质谱仪系统
3.1.9 四极杆：
Mo质四极杆,ＲＦ频率2.0MHz
3.1.10四极杆质谱仪是可靠的免拆洗系统
3.1.11脉冲模拟双模式同时型电子倍增器，
3.1.12可以在一次样品测试中同时完成扫描和跳峰分析
3.1.13等离子体炬位调整:
由计算机三维（X,Y,Z方向）控制
3.1.14数据采集：
拥有60000道以上的多通道数据分析系统，以适应瞬间信号分析要求
3.1.14.质谱范围：
2-255amu
3.1.16仪器分辨率在一次样品分析中可变，以便通过变化分辨率降低干扰，扩大分析元素的浓度分析范围
3.2软件：
3.2.1操作系统：
Windows2000,多任务,多用户系统软件
3.2.2全自动分析功能（启动关闭仪器,炬位调整,等离子体参数,离子透镜,其它技术模式切换等）
3.2.3瞬间信号分析软件以便与色谱或激光进样系统等连用。
3.2.4实时数据显示,和实时报告显示
3.2.4拥有智能化软件包括：
智能进样时间和智能冲洗时间，QAQC软件，智能谱图解释软件,
4仪器功能要求
4.1定性分析
4.1.1带智能谱图解释
4.2半定量分析
4.2.1要求半定量分析的内存工作曲线可以校正
*4.2.2要求样品分析时能一次同时完成半定量和全定量分析
4.3全定量分析
4.3.1全定量分析要求符合美国EPA200.8,EPA6020,NS30等国际标准要求,
4.4等离子体炬焰屏蔽技术分析
*4.4.1等离子体炬焰屏蔽技术要求包括冷焰屏蔽技术，和热焰屏蔽高灵敏度模式技术
*4.4.2屏蔽技术能自动切换，并保持稳定
*4.4.3在一次样品分析中能自动切换冷焰模式和标准模式，并保证样品中所有分析元素（在二种不同模式中）一次完成分析
4.5碰撞池技术分析
*4.5.1碰撞池条件和标准条件的切换为全自动化.
*4.5.2碰撞池技术配置二个质量流量计，并能够快速切换，切换时间小于30秒钟。
*4.5.3可以使用简单碰撞气体，反应性气体，及混合气体（NH3/He,H2/He），并可以在一次样品分析中自动切换，拥有更广泛的应用范围。
5.仪器通用技术指标:
*5.1灵敏度sensitivity
5.1.1低质量数lowmass:
>40Mcps/ppm
*5.1.2中质量数middlemass:
>100Mcps/ppm
*5.1.3高质量数highmass:
>100Mcps/ppm
*5.2随机背景radonbackground:
<0.5cps（220amu）
*5.3仪器信噪比instrumentsignal/noiseratio:
>200,000,000（>200M）（信噪比=灵敏度/随机背景,1ppmIn溶液计算）
5.4氧化物离子oxideionlever （MO+/M+）<2%
5.5短期稳定性shortstability （RSD）:
<2%（不用内标）
*5.6长期稳定性longstability（RSD）:
<3%（4小时）（不用内标）（使用1ppb标准元素溶液）
5.7质谱校正稳定性masscalibrationdrift:
<0.05amu/一天,<0.1amu/一个月
5.8同位素比精度isotoperatioprecision:
<0.2%107Ag/109Ag
6.配置要求
序号
配置描述
数量
1
ICP－MS台式系统包括：
1
整体型，1600W，固态晶控，27MHzICP发生器。
易操作，敞开式构件的进样系统。
使用室温，石英玻璃，带撞击球的雾化室和同心玻璃雾化器。
整体型自我定位炬管，由计算机控制炬位的x,y,z三维平面调整。
计算机控制全部等离子体气体管线的质量流量控制器（雾化器，辅助气，冷却气）
保护性离子提取，离子透镜系统，提供高的离子传输效率和超低的背景。
离轴四极杆分析器提供杰出的传输效率和覆盖全质量数范围（2－255amu）内的卓越的丰度灵敏度。
计算机控制的，可切换的，四极杆分辨率设置。
三级真空系统，由旋转机械真空泵，和高性能分流式双分子涡轮泵组成的。
PC计算机，专业版Windons系统，19寸TFT平面显示器，键盘和鼠标打印机
2
Xt接口技术提供异常的基体承受能力，扩展了低质量数的动态范围，降低了多原子干扰离子的形成。
1
3
PlasmaScreenPlus等离子体炬焰屏蔽系统提供低的离子能量扩散和高的信背比性能。
1
4
Xs镍接口，包括Ni的Xs截取锥和卸锥工具
1
5
Ni采样锥，XtorXs接口
1
6
循环冷却水系统（50Hz）
1
全进口配置
7
全自动第三代碰撞反应池技术——配有二个计算机控制的气体质量流量控制器，任何二种气体的结合可以被自动引入碰撞池，有效地选择性降低分子离子的干扰。
PlasmaLab仪器系统软件允许利用自动调谐程序通过每次实验的仪器调试溶液对碰撞池气体流速进行自动最佳化，碰撞池技术模式与正常模式之间的切换是全自动的，而且允许在一次样品信号采集中完成切换检测。
1
8
半导体制冷温度控制器用于雾化室，用于精确控制雾化室温度，消除由于实验室条件的波动所引起的任何漂移。
1
9
消耗品包（包括如下备件）
1
（1）
Ni采样锥，用于XtorXs接口
1
（2）
截取锥安装锣丝
4
（3）
Xt接口，Ni截取锥
1
（4）
采样锥密封垫
20
（5）
O型圈VITON28.0mmIDx1.5mmC/S（截取锥）
2
（6）
密封环
2
（7）
0.51mm进样泵管
1
（8）
排液管
1
（9）
TEFLON排液管
5
（10）
TEFLON管（雾化器进样管）
1
（11）
石英炬管
2
（12）
石英护套（PLASMASCREEN）
1
（13）
插入式炬管连接头6x4mm
2
（14）
黑色聚亚胺酯气管（冷却气，辅助气，雾化气）
2
（15）
银质屏蔽圈
1
（16）
2.0mm中心管
1
（17）
超纯19级真空泵油（机械泵）
1
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