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04场效应管放大电路

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第四章场效应管放大电路

由于半导体三极管工作在放大状态时,必须保证发射结正偏,故输入端始终存在输入电流。

改变输入电流就可改变输出电流,所以三极管是电流控制器件,因而三极管组成的放大器,其输入电阻不高。

场效应管是通过改变输入电压(即利用电场效应)来控制输出电流的,属于电压控制器件,它不吸收信号源电流,不消耗信号源功率,因此输入电阻十分高,可高达上百兆欧。

除此之外,场效应管还具有温度稳定性好,抗辐射能力强、噪声低、制造工艺简单、便于集成等优点,所得到广泛的应用。

场效应管分为结型场效应管(JFET)和绝缘栅场效应管(IGFET),目前最常用的MOS管。

由于半导体三极管参与导电的两种极性的载流子,电子和空穴,所以又称为半导体三极管双极性三极管。

场效应管仅依靠一种极性的载流子导电,所以又称为单极性三极管。

FET-FieldEffecttransistor

JFET-JunctionFieldEffecttransistor

IGFET-InsulatedGateFieldEffectTransistor

MOS-Metal-Oxide-Semiconductor

§1结型场效应管

一、结构

结型场效应管有两种结构形式。

N型沟道结型场效应管和P型沟道结型场效应管。

以N沟道为例。

在一块N型硅半导体材料的的两边,利用合金法、扩散法或其它工艺做成高浓度的P+型区,使之形成两个PN结,然后将两边的P+型区连在一起,引出一个电极,称为栅极G。

在N型半导体两端各引出一个电极,分别作为源极S和漏极D。

夹在两个PN结中间的N型区是源极与漏极之间的电流通道,称为导电沟道。

由于N型半导体多数载流子是电子,故此沟道称为N型沟道。

同理,P型沟道结型场效应管中,沟道是P型区,称为P型沟道,栅极与N型区相连。

电路符号如图所示,箭头方向可理解为两个PN结的正向导电方向。

二、工作原理

从结型场效应管的结构可看出,我们在D、S间加上电压UDS,则在源极和漏极之间形成电流ID。

我们通过改变栅极和源极的反向电压UGS,则可以改变两个PN结阻档层(耗尽层)的宽度。

由于栅极区是高掺杂区,所以阻挡层主要降在沟道区。

故|UGS|的改变,会引起沟道宽度的变化,其沟道电阻也随之而变,从而改变了漏极电流ID。

如|UGS|上升,则沟道变窄,电阻增加,ID下降。

反之亦然。

所以改变UGS的大小,可以控制漏极电流。

这是场效应管工作的基本原理,也是核心部分。

下面我们详细讨论。

1.UGS对导电沟道的影响

为了便于讨论,先假设UDS=0。

(a)UGS=0

(b)UGS<0

当UGS由零向负值增大时,PN结的阻挡层加厚,沟道变窄,电阻增大。

(c)UGS=–Up

若UGS的负值再进一步增大,当UGS=–Up时,两个PN结的阻挡层相遇,沟道消失,我们称沟道被“夹断”了,UP称为夹断电压,此时ID=0。

 

2.ID与UDS、UGS之间的关系

假定:

栅、源电压|UGS|<|Up|,如UGS=–1V,Up=–4V。

当UDS=2V时,沟道中将有电流ID通过。

此电流将沿着沟道方向产生一个电压降,这样沟道上各点的电位就不同,因而沟道内各点的电位就不同,因而沟道内各点与栅极的电位差也就不相等。

漏极端与栅极之间的反向电压最高,如:

UDG=UDS–UGS=2–(–1)=3V,沿着沟道向下逐渐降低,源极端为最低,如:

USG=–UGS=1V,两个PN结阻挡层将出现楔形,使得靠近源极端沟道较宽,而靠近漏极端的沟道较窄。

如下图(a)所示。

此时再增大UDS,由于沟道电阻增长较慢,所以ID随之增加。

⑵预夹断

当进一步增加UDS,当栅、漏间电压UGD等于Up时,即

UGD=UGS–UDS=Up

则在D极附近,两个PN结的阻挡层相遇,如下图(b)所示。

我们称为预夹断。

如果继续升高UDS,就会使夹断区向源极端方向发展,沟道电阻增加。

由于沟道电阻的增长速率与UDS的增加速率基本相同,故这一期间ID趋于一恒定值,不随UDS的增大而增大,此时,漏极电流的大小仅取决于UGS的大小。

UGS越负,沟道电阻越大,ID便越小。

当UGS=Up时,沟道被全部夹断,ID=0,如下图(c)所示。

注意:

预夹断后还能有电流。

不要认为预夹断后就没有电流。

由于结型场效应管工作时,我们总是要栅源之间加一个反向偏置电压,使得PN结始终处于反向接法,故ID≈0,所以,场效应管的输入电阻rgs很高。

 

 

三、特性曲线

1、输出特性曲线

以UGS为参变量时,漏极电流ID与与漏、源电压UDS之间的关系,称为输出特性,即

根据工作情况,输出特性可划分为四个区域。

⑴可变电阻区。

可变电阻区位于输出特性曲线的起始部分,此区的特点是:

固定UGS时,ID随UDS增大而线性上升,相当于线性电阻;改变UGS时,特性曲线的斜率变化,相当于电阻的阻值不同,UGS增大,相应的电阻增大。

⑵恒流区。

该区的特点是:

ID基本不随UDS而变化,仅取决于UGS的值,输出特性曲线趋于水平,故称为恒流区或饱和区。

⑶击穿区。

位于特性曲线的最右部分,当UDS升高到一定程度时,反向偏置的PN结被击穿,ID将突然增大。

UGS愈负时,达到雪崩击穿所需的UDS电压愈小。

当UGS=0时其击穿电压用BUDSS

⑷截止区。

当|UGS|≥|UP|时,管子的导电沟道处于完全夹断状态,ID=0,场效应管截止。

2、转移特性曲线

当漏、源之间电压UDS保持不变时,漏极电流ID和栅、源之间电压UGS的关系称为转移特性。

它描述了栅、源之间的电压UGS对漏极电流ID的控制作用。

由图可见:

UGS=0时,ID=IDSS漏极电流最大,称为饱合漏极电流IDSS

|UGS|增大,ID减小,当UGS=–Up时,ID=0。

Up称为夹断电压。

结型场效应管的转移特性在UGS=0~Up范围内可用下面近似公式表示:

根据输出特性曲线可以做出转移特性曲线。

§2绝缘栅场效应管

绝缘栅场效应管通常由金属、氧化物和半导体制成,所以又称为金属-氧化物-半导体场效应管,简称为MOS场效应管。

由于这种场效应管的栅极被绝缘层(SiO2)隔离(所以称为绝缘栅)。

因此其输入电阻更高,可达109Ω以上。

N沟道P沟道增强型耗尽型共有四种类型。

一、N沟道增强型MOS场效应管

1.结构

N沟道增强型MOS场效应管的结构示意图如右图所示。

把一块掺杂浓度较低的P型半导体作为衬底,然后在其表面上覆盖一层SiO2的绝缘层,再在SiO2层上刻出两个窗口,通过扩散工艺形成两个高掺杂的N型区(用N+表示),并在N+区和SiO2的表面各自喷上一层金属铝,分别引出源极、漏极和控制栅极。

衬底上也引出一根引线,通常情况下将它和源极在内部相连。

2.工作原理

结型场效应管是通过改变UGS来控制PN结的阻挡层宽窄,从而改变导电沟道的宽度,达到控制漏极电流ID的目的。

而绝缘栅场效应管则是利用UGS来控制“感应电荷”的多少,以改变由这些“感应电荷”形成的导电沟道的状况,然后达到控制漏极电流ID的目的。

对N沟道增强型的MOS场效应管,当UGS=0时,在漏极和源极的两个N+区之间是P型衬底,因此漏、源之间相当于两个背靠背的PN结。

所以无论漏、源之间加上何种极性的电压,总是不导通的,ID=0。

当UGS>0时,(为方便假定UDS=0),则在SiO2的绝缘层中,产生了一个垂直半导体表面,由栅极指向P型衬底的电场。

这个电场排斥空穴吸引电子,当UGS>UT时,在绝缘栅下的P型区中形成了一层以电子为主的N型层。

由于源极和漏极均为N+型,故此N型层在漏、源极间形成电子导电的沟道,称为N型沟道。

UT称为开启电压,此时在漏、源极间加UDS,则形成电流ID。

显然,此时改变UGS则可改变沟道的宽窄,即改变沟道电阻大小,从而控制了漏极电流ID的大小。

由于这类场效应管在UGS=0时,ID=0,只有在UGS>UT后才出现沟道,形成电流,故称为增强型。

3.特性曲线

N沟道增强型场效应管,也用转移特性、输出特性表示ID、UGS、UDS之间的关系,如下图所示。

转移特性:

UGS 

UGS↑ID↑;ID=10μA时对应的UGS定义为开启电压UT。

输出特性:

也可分为4个区,可变电阻区、恒流区、击穿区和截止区。

二、N沟道耗尽型MOS管

1.结构

耗尽型MOS场效应管,是在制造过程中,预先在SiO2绝缘层中掺入大量的正离子,因此,在UGS=0时,这些正离子产生的电场也能在P型衬底中“感应”出足够的电子,形成N型导电沟道,如右图所示。

衬底通常在内部与源极相连。

2.工作原理

当UDS>0时,将产生较大的漏极电流ID。

如果使UGS<0,则它将削弱正离子所形成的电场,使N沟道变窄,从而使ID减小。

当UGS更负,达到某一数值时沟道消失,ID=0。

使ID=0的UGS我们也称为夹断电压,仍用UP表示。

UGS

3.特性曲线

N沟道MOS耗尽型场效应管的特性曲线如下图所示,也分为转移特性和输出特性。

其中:

IDSS—UGS=0时的漏极电流。

UP—夹断电压,使ID=0对应的UGS的值。

P沟道场效应管的工作原理与N沟道类似。

我们不再讨论。

下面我们看一下各类绝缘栅场效应管(MOS场效应管)在电路中的符号。

§3场效应管的主要参数

场效应管主要参数包括直流参数、交流参数、极限参数三部分。

一、直流参数

1.饱合漏极电流IDSS

IDSS是耗尽型和结型场效应管的一个重要参数。

定义:

当栅、源极之间的电压UGS=0,而漏、源极之间的电压UDS大于夹断电压UP时对应的漏极电流。

2.夹断电压UP

UP也是耗尽型和结型场效应管的重要参数。

定义:

当UDS一定时,使ID减小到某一个微小电流(如1μA,50μA)时所需UGS的值。

3.开启电压UT

UT是增强型场效应管的重要参数。

定义:

当UDS一定时,漏极电流ID达到某一数值(如10μA)时所需加的UGS值。

4.直流输入电阻RGS

RGS是栅、源之间所加电压与产生的栅极电流之比,由于栅极几乎不索取电流,因此输入电阻很高,结型为106Ω以上,MOS管可达1010Ω以上。

二、交流参数

1.低频跨导gm

此参数是描述栅、源电压UGS对漏极电流的控制作用,它的定义是当UDS一定时,ID与UGS的变化量之比,即

跨导gm的单位是mA/V。

它的值可由转移特性或输出特性求得。

在转移特性上工作点Q外切线的斜率即是gm。

或由输出特性看,在工作点处作一条垂直横坐标的直线(表示UDS=常数),在Q点上下取一个较小的栅、源电压变化量ΔUGS,然后从纵坐标上找到相应的漏极电流的变化量ΔID/ΔUGS,则gm=ΔID/ΔUGS。

此外。

对结型场效应管,可由

求得

只要将工作点处的UGS值代入就可求得gm

2.极间电容

场效应管三个极间的电容。

包括CGS、CGD和CDS。

这些极间电容愈小,则管子的高频性能愈好。

一般为几个pF。

三、极限参数

1.漏极最大允许耗散功率PDm

PDm=IDUDS

2.漏源间击穿电压BUDS

在场效应管输出特性曲线上,当漏极电流ID急剧上升产生雪崩击穿时的UDS。

工作时,外加在漏极、源极之间的电压不得超过此值。

3.栅源间击穿电压BUGS

结型场效应管正常工作时,栅、源之间的PN结处于反向偏置状态,若UGS过高,PN结将被击穿。

对于MOS管,栅源极击穿后不能恢复,因为栅极与沟道间的SiO2被击穿属破坏性击穿。

§4场效应管的特点

场效应管具有放大作用,可以组成各种放大电路,它与双极性三极管相比,具有以下几个特点:

1、场效应管是一种电压控制器件

通过UGS来控制ID。

而双极性三极管是电流控制器件,通过IB来控制IC。

2、场效应管输入端几乎没有电流

场效应管工作时,栅、源极之间的PN结处于反向偏置状态,输入端几乎没有电流。

所以其直流输入电阻和交流输入电阻都非常高。

而双极性三极管,发射结始终处于正向偏置,总是存在输入电流,故b、e极间的输入电阻较小。

3、场效应管利用多子导电

由于场效应管是利用多数载流子导电的,因此,与双极性三极管相比,具有噪声小、受幅射的影响小、热稳定性好而且存在零温度系数工作点等特性。

4、场效应管的源漏极有时可以互换使用

由于场效应管的结构对称,有时漏极和源极可以互换使用,而各项指标基本上不受影响。

因此使用时比较方便、灵活对于有的绝缘栅场效应管,制造时源极已和衬底连在一起,则源极和漏极不能互换。

5、场效应管的制造工艺简单,便于大规模集成

每个MOS场效应管在硅片上所占的面积只有双极性三极管的5%,因此集成度更高。

6、MOS管输入电阻高,栅源极容易被静电击穿

MOS场效应管的输入电阻可高达1015Ω,因此,由外界静电感应所产生的电荷不易泄漏。

而栅极上的SiO2绝缘层双很薄,这将在栅极上产生很高的电场强度,以致引起绝缘层击穿而损坏管子。

7、场效应管的跨导较小

组成放大电路时,在相同负载电阻下,电压放大倍数比双极性三极管低。

§5场效应管放大电路

根据前面讲的场效应管的结构和工作原理,和双极性三极管比较可知,场效应管具有放大作用,它的三个极和双极性三极管的三个极存在着对应关系即:

G(栅极)→b(基极)S(源极)→e(发射极)D(漏极)→c(集电极)

所以根据双极性三极管放大电路,可组成相应的场效应管放大电路。

但由于两种放大器件各自的特点,故不能将双极性三极管放大电路的三极管简单地用场效应管取代,组成场效应管放大电路。

双极性三极管是电流控制器件,组成放大电路时,应给双极性三极管设置偏置偏流,而场效应管是电压控制器件,故组成放大电路时,应给场效应管设置偏压,保证放大电路具有合适的工作点,避免输出波形产生严重的非线性失真。

一、静态工作点与偏置电路

由于场效应管种类较多,故采用的偏置电路,其电压极性必须考虑。

下面以N沟道为例进行讨论。

N沟道的结型场效应管只能工作在UGS<0的区域,MOS管又分为耗尽型和增强型,增强型工作在UGS>0,而耗尽型工作在UGS<0。

1.1.       自给偏压偏置电路

右图给出的是一种称为自给偏压电路的偏置电路,它适用于结型场效应管或耗尽型场效应管。

它依靠漏极电流ID在Re上的电压降提供栅极偏压。

UGS=–IDRS

同样,在RS上要并联一个足够大的旁路电容。

由场效应管的工作原理我们知道ID是随UGS变化的,而现在UGS又取决于ID的大小,怎么确定静态工作点的ID和UGS的值呢?

一般可采用两种方法:

图解法和计算法。

⑴图解法

首先,作直流负载线,由漏极回路写出方程

UDS=UDD-ID(RD+RS)

由此在输出特性曲线上做出直流负载线AB,将此直流负载线逐点转到uGS~iD坐标,得到对应直流负载线的转移特性曲线CD,再由UGS=–IDRS在转移特性坐标中作另一条直线,两线的交点即为Q点。

⑵计算法

【例】电路如上页图,场效应管为3DJG,其输出特性曲线如下图所示,已知RD=2kΩ,RS=1.2kΩ,UDD=15V,试用图解法确定该放大器的静态工作点。

解:

写出输出回路的电压电流方程,即直流负载线方程。

UDS=UDD-ID(RD+RS)

设UDS=0V时

ID=0mA时

在输出特性图上将上述两点相连得直流负载线。

再根据上述直流负载线与输出特性曲线簇的交点,转移到uGS~iD坐标系中,画出相应于该直流负载线的转移特性曲线。

在转移特性曲线上,做出UGS=–IDRS的曲线。

它在uGS~iD坐标系中是一条直线,找出两点即可。

令ID=0UGS=0

ID=3mAUGS=3.6V

连接这两点,在uGS~iD坐标系中得一直线,此直线与转移特性曲线的交点即为Q点,对应Q点的值为:

ID=2.5mAUGS=–3VUDS=7V

2.分压式偏置电路

分压式偏置电路也是一种常用的偏置电路,该种电路适用于所有类型的场效应管,如下图所示,为了不使分压电阻R1、R2对放大电路的输入电阻影响太大,故通过RG与栅极相连。

该电路栅、源电压为:

⑴图解法

同上,不过ID=0,UGS不等于0,而为

⑵计算法

联立解下面方程组:

【例】试计算上图的静态工作点。

已知R1=50kΩ,R2=150kΩ,RG=1MΩ,RD=RS=10kΩ,RL=1MΩ,CS=100μF,UDD=20V,场效应管为3DJF,其Up=–5V,IDSS=1mA。

解:

将UGS代入ID式得:

漏极对地电压为:

UD=UDD–IDRD=20–0.61×10=13.9V

二、场效应管的微变等效电路

由于场效应管输入端不取电流,输入电阻极大,故输入端可视为开路。

场效应管仅存在如下关系:

rD很大,可以认为开路。

根据电路方程可画出等效电路如右上图所示。

三、共源极放大电路

放大电路和微变等效电路如下图与示。

场效应管放大电路的动态分析同双极性三极管,也是求电压放大倍数Au、输入电阻ri和输出电阻ro。

1.电压放大倍数

根据电压放大倍数的定义

由等效电路可得:

再找出Uo和Ui的关系,即Ugs和Ui的关系,从等效电路可得:

Ui=Ugs

所以:

2.输入电阻

3.输出电阻

 

 

 

 

四、共漏极放大器(源极输出器)

电路和等效电路如下图所示。

同样求电压放大倍数、输入电阻、输出电阻。

1.电压放大倍数

根据电压放大倍数的定义

从等效电路可得:

又有Ui=Ugs+UoUgs=Ui–Uo

2.输入电阻

ri=RG

3.输出电阻

根据求输出电阻的方法,令:

Us=0,并在输出端加一信号U2如下图所示

则:

【例】计算下面电路的电压放大倍数、输入电阻、输出电阻。

电路参数为:

R1=50kΩ,R2=150kΩ,RG=1MΩ,RD=RS=10kΩ,RL=1MΩ,CS=100μF,UDD=20V,场效应管为3DJF,其Up=–5V,IDSS=1mA,

解:

由前例可知,UGS=-1.1V,ID=0.61mA

ro=RD=10kΩ

 

 

 

 

Field[]n.原[旷]野,田地;场

Effect[]n.结果,效果,作用,影响

transistor[]n.[电子]晶体管

junction[]n.连接,接合,交叉点,汇合处

insulated[]绝缘的隔热的

gate[]n.大门

semiconductor[]n.[物]半导体

metal[]n.金属

oxide[]n.[化]氧化物

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