全面的大基金二期产业链.docx

1、全面的大基金二期产业链 最全的大基金二期产业链设备 光刻机（国产化率0%）荷兰的ASML-家独大，占了全球70%的高端光刻机市场。-国内光刻机完全依赖进口，目前国内光刻机技术最先进的就是上海微电子，但是能量产的最好的也是90nm光刻机。（个股）-（未上市）上海微电子：国内唯一的一家从事光刻机研发制造的公司。目前制造用光刻机只能做到 90nm。-粤芯半导体-购买多台荷兰ASML光刻机（10台+），官微回复华为和大基金二期有接洽-智光电气占比15%，智光电气法人和总经理陈谨先生也是粤芯半导体董事长。 刻蚀机（国产化率15%）信息）-干法刻蚀和湿法刻蚀，其中湿法刻蚀需要大量用到氢氟酸。（个股）-中微

2、公司（稀缺度）- 中微半导体的产品已经可以进入台积电7nm工艺制程。-北方华创-综合性半导体设备厂商，北方华创的硅刻蚀机也已经进入市场。-万业企业-收购凯世通：离子注入机。 薄膜设备(沉积/薄膜设备15% ) -北方华创、中微公司。 测试设备北方华创一刻蚀机、 PVD设备 - 主要设备有刻蚀机、沉积PVDCVD、 氧化炉、扩散炉、清洗机等，应该说是A股中产业链最全的设备公司，其中刻蚀机和PVD设备 已经达到业内领先水平。下游主要客户有中芯国际、华虹半导体、合肥长鑫、长江存储等。长川科技一测试机、 分选机-公司只做这两个设备， 其中测试机占45% ,分选机占55%，由于测试机仍然被海外主导 ，所

3、以国产替代依然有很大空间。精测电子光学 检测设备-9月初，子公司增资5.5亿，大基金出资1亿，获得大基金投资。材料 新材料-光刻胶,氟聚酰亚胺,高纯度氟化氢。-半导体用光刻胶，靶材，石英。-碳纤维，陶瓷材料。-石墨烯，超导材料。-碳化硅（SIC） - 氮化镓（Gan）。 芯片材料（信息）-硅片，成本占比37%、主流12寸以上硅晶片基本依赖进口。-电子气体,成本占比14%，对外依存度超过80%。-光刻胶及配套试剂，成本占比12%，且呈不断提升趋势，基本依赖进口。-CMP抛光材料，成本占比7% ,国产化率不到10%。-靶材，成本占比3%，大部分依赖进口。（方向）-硅片-上海硅产业(拟科创板上市)。

4、-中环股份-光伏硅片+半导体硅片（产量低，主要是8英寸的）,12英寸的正在投资。-上海新昇-上海新阳：2019年3月18日公告，公司持有上海新昇半导体科技有限公司27.56%的股权，上海硅产业集团股份有限公司持有上海新昇72.44%的股权。因上海新昇经营发展需要，公司拟将持有的上海新昇26.06%的股权转让给上海硅产业，上海硅产业采用增发股份购买资产的方式进行交易，交易对价为48,236.23万元。交易完成后，公司将获得上海硅产业147,136,600股份，仍持有上海新昇1.5%的股权，上海硅产业持有上海新昇股权增加为98.5%。-晶盛机电-硅晶圆。-电子气体-三孚股份-三氯氢硅行业龙头 业绩

5、一直健康 还有在建的产能。-雅克科技-A，半导体新材料龙头企业。主要涉及 SOD、前驱体、含氟特气、封测用硅微粉等半导体核心材料领域，覆盖半导体薄膜沉积、刻蚀、清洗、封测等半导体核心环节 B,下游客户包括 SK 海力士、三星电子、台积电、中芯国际、长江存储等世界知名半导体厂商 C 大基金目前持有上市公司5.73的股份。-南大光电-A，电子特气积极扩产 B，投资并购飞源气体（57.97%股权）。-杭氧股份-公司布局半导体供气项目。业绩值得期待。-巨化股份。-CMP抛光材料-安集科技-CMP 化学机械抛光液：国产唯一供应商。-光刻胶去除剂：国产技术领先供应商。-鼎龙股份-CMP 抛光垫纳入“02

6、专项”，2019年上半年获首张12 寸订单放量在即。-公司一期二期项目合计30 万片产能已经基本就绪，全部达产后预计贡献营收10 亿元，税后净利3.5 亿元。-光刻胶及配套试剂-芯源微-主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售。产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备。公司涂胶/显影机成功打破国外厂商垄断，在LED 芯片制造及集成电路制造后道先进封装等环节，已成功实现进口替代。同时，公司成功突破了晶圆加工环节的涂胶显影设备技术，成型产品目前正在长江存储、上海华力等前道芯片制造厂商进行工艺验证。-个股较多-半导体高端光刻胶市场超过 90%市场份额被日本住友信越化学、JSR、TOK、美国陶氏等

7、公司占据，按光源敏感度可以分为 i 线光刻胶（365nm）、KrF 光刻胶（248nm）、ArF 光刻胶（193nm），EUV(157nm)。其中高端的 ArF 光刻胶是集成电路 22nm、14nm 乃至 10nm 制程的关键，EUV光刻胶处在整个半导体原材料的顶端。-晶瑞股份：子公司苏州瑞红在国内率先实现 i 线光刻胶的量产，可以实现 0.35m 的分辨率，已通过中芯国际天津厂上线测试并取得供货订单。公司 KrF 光刻胶（248nm）光刻胶正在研发之中。-容大感光：公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品，公司生产的光刻胶曝光波长涵盖紫外宽谱、G线（436nm）、I线（365

8、nm）等。主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。-南大光电：2017 年启动 193nm ArF 光刻胶开发项目，2019年加大对ArF 光刻胶（193nm）光刻胶的研发投入力度，2019年公司研发费用投入比去年同期增加一倍。-上海新阳：经过近三年的研发ArF 光刻胶（193nm），关键技术已有重大突破，已从实验室研发转向产业研发。-飞凯材料：公司的光刻胶目前没有在IC领域的应用，主要目标应用于TFT-LCD行业。-靶材-有研新材。-阿石创。-江丰电子。 其它 超高纯化学试剂（湿电子化学品）-国内湿电子化学品主要通过进口为主，80%依赖进口。-江化微：国内湿电子化学品龙头，产品包括酸蚀刻液、剥离液、硝酸、硫酸、氢氟酸等。-晶瑞股份：微电子化学品龙头，生产中高端氢氟酸、硝酸、光刻胶。其双氧水、氨水、硝酸已达到-SEMI G5 的标准，打破国外垄断。-上海新阳：半导体制造电镀液、晶圆加工用清洗剂等。生产的电镀硫酸铜溶液已经能在 812 英寸的产线中应用。-光华科技：国内 PCB 化学品龙头。孔金属化镀铜、镀镍金、镀锡和棕化液等产品应用在 PCB 制程中的多个环节，国内无竞争者。-强力新材：光刻胶专用化学品龙头。分为光刻胶用光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂等）和光刻胶树脂两大系列。-巨化股份：ppt 级(氢氟酸、硝酸、硫酸、盐酸、BOE、氟化铵、氨水)等。