全面的大基金二期产业链.docx
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全面的大基金二期产业链
最全的大基金二期产业链
设备
∙光刻机（国产化率0%）
荷兰的ASML-家独大，占了全球70%的高端光刻机市场。
---- 国内光刻机完全依赖进口，目前国内光刻机技术最先进的就是上海微电子，但是能量产的最好的也是90nm光刻机。
（个股）----（未上市）上海微电子：
国内唯一的一家从事光刻机研发制造的公司。
目前制造用光刻机只能做到90nm。
---- 粤芯半导体 ---- 购买多台荷兰ASML光刻机（10台+），官微回复华为和大基金二期有接洽
----- 智光电气占比15%，智光电气法人和总经理陈谨先生也是粤芯半导体董事长。
∙刻蚀机（国产化率15%）
信息）---- 干法刻蚀和湿法刻蚀，其中湿法刻蚀需要大量用到氢氟酸。
（个股）---- 中微公司（稀缺度）----中微半导体的产品已经可以进入台积电7nm工艺制程。
---- 北方华创----综合性半导体设备厂商，北方华创的硅刻蚀机也已经进入市场。
---- 万业企业----收购凯世通：
离子注入机。
∙薄膜设备（沉积/薄膜设备15%）---- 北方华创、中微公司。
∙测试设备
北方华创一刻蚀机、PVD设备----主要设备有刻蚀机、沉积PVD\CVD、氧化炉、扩散炉、清洗机等，应该说是A股中产业链最全的设备公司，其中刻蚀机和PVD设备已经达到业内领先水平。
下游主要客户有中芯国际、华虹半导体、合肥长鑫、长江存储等。
长川科技一测试机、分选机----公司只做这两个设备，其中测试机占45%,分选机占55%，由于测试机仍然被海外主导，所以国产替代依然有很大空间。
精测电子光学检测设备----9月初，子公司增资5.5亿，大基金出资1亿，获得大基金投资。
材料
∙新材料
---- 光刻胶,氟聚酰亚胺,高纯度氟化氢。
---- 半导体用光刻胶，靶材，石英。
---- 碳纤维，陶瓷材料。
---- 石墨烯，超导材料。
---- 碳化硅（SIC）-氮化镓（Gan）。
∙芯片材料
（信息） ---- 硅片，成本占比37%、主流12寸以上硅晶片基本依赖进口。
---- 电子气体,成本占比14%，对外依存度超过80%。
---- 光刻胶及配套试剂，成本占比12%，且呈不断提升趋势，基本依赖进口。
---- CMP抛光材料，成本占比7%,国产化率不到10%。
---- 靶材，成本占比3%，大部分依赖进口。
（方向）---- 硅片 ---- 上海硅产业（拟科创板上市）。
---- 中环股份 ---- 光伏硅片+半导体硅片（产量低，主要是8英寸的）,12英寸的正在投资。
---- 上海新昇 ---- 上海新阳：
2019年3月18日公告，公司持有上海新昇半导体科技有限公司27.56%的股权，上海硅产业集团股份有限公司持有上海新昇72.44%的股权。
因上海新昇经营发展需要，公司拟将持有的上海新昇26.06%的股权转让给上海硅产业，上海硅产业采用增发股份购买资产的方式进行交易，交易对价为48,236.23万元。
交易完成后，公司将获得上海硅产业147,136,600股份，仍持有上海新昇1.5%的股权，上海硅产业持有上海新昇股权增加为98.5%。
---- 晶盛机电 ---- 硅晶圆。
----电子气体 ---- 三孚股份 ---- 三氯氢硅行业龙头业绩一直健康还有在建的产能。
---- 雅克科技 ---- A，半导体新材料龙头企业。
主要涉及SOD、前驱体、含氟特气、封测用硅微粉等半导体核心材料领域，覆盖半导体薄膜沉积、刻蚀、清洗、封测等半导体核心环节B,下游客户包括SK海力士、三星电子、台积电、中芯国际、长江存储等世界知名半导体厂商C大基金目前持有上市公司5.73的股份。
---- 南大光电 ---- A，电子特气积极扩产B，投资并购飞源气体（57.97%股权）。
---- 杭氧股份 ---- 公司布局半导体供气项目。
业绩值得期待。
---- 巨化股份。
----CMP抛光材料 ---- 安集科技 ---- CMP化学机械抛光液：
国产唯一供应商。
---- 光刻胶去除剂：
国产技术领先供应商。
---- 鼎龙股份 ---- CMP抛光垫纳入“02专项”，2019年上半年获首张12寸订单放量在即。
---- 公司一期二期项目合计30万片产能已经基本就绪，全部达产后预计贡献营收10亿元，税后净利3.5亿元。
---- 光刻胶及配套试剂 ---- 芯源微 ---- 主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售。
产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备。
公司涂胶/显影机成功打破国外厂商垄断，在LED芯片制造及集成电路制造后道先进封装等环节，已成功实现进口替代。
同时，公司成功突破了晶圆加工环节的涂胶显影设备技术，成型产品目前正在长江存储、上海华力等前道芯片制造厂商进行工艺验证。
---- 个股较多 ---- 半导体高端光刻胶市场超过90%市场份额被日本住友信越化学、JSR、TOK、美国陶氏等公司占据，按光源敏感度可以分为i线光刻胶（365nm）、KrF光刻胶（248nm）、ArF光刻胶（193nm），EUV（157nm）。
其中高端的ArF光刻胶是集成电路22nm、14nm乃至10nm制程的关键，EUV光刻胶处在整个半导体原材料的顶端。
---- 晶瑞股份：
子公司苏州瑞红在国内率先实现i线光刻胶的量产，可以实现0.35μm的分辨率，已通过中芯国际天津厂上线测试并取得供货订单。
公司KrF光刻胶（248nm）光刻胶正在研发之中。
---- 容大感光：
公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品，公司生产的光刻胶曝光波长涵盖紫外宽谱、G线（436nm）、I线（365nm）等。
主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。
---- 南大光电：
2017年启动193nmArF光刻胶开发项目，2019年加大对ArF光刻胶（193nm）光刻胶的研发投入力度，2019年公司研发费用投入比去年同期增加一倍。
---- 上海新阳：
经过近三年的研发ArF光刻胶（193nm），关键技术已有重大突破，已从实验室研发转向产业研发。
---- 飞凯材料：
公司的光刻胶目前没有在IC领域的应用，主要目标应用于TFT-LCD行业。
---- 靶材 ---- 有研新材。
---- 阿石创。
---- 江丰电子。
∙其它超高纯化学试剂（湿电子化学品）
---- 国内湿电子化学品主要通过进口为主，80%依赖进口。
---- 江化微：
国内湿电子化学品龙头，产品包括酸蚀刻液、剥离液、硝酸、硫酸、氢氟酸等。
---- 晶瑞股份：
微电子化学品龙头，生产中高端氢氟酸、硝酸、光刻胶。
其双氧水、氨水、硝酸已达到 ---- SEMIG5的标准，打破国外垄断。
---- 上海新阳：
半导体制造电镀液、晶圆加工用清洗剂等。
生产的电镀硫酸铜溶液已经能在8~12英寸的产线中应用。
---- 光华科技：
国内PCB化学品龙头。
孔金属化镀铜、镀镍金、镀锡和棕化液等产品应用在PCB制程中的多个环节，国内无竞争者。
---- 强力新材：
光刻胶专用化学品龙头。
分为光刻胶用光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂等）和光刻胶树脂两大系列。
---- 巨化股份：
ppt级（氢氟酸、硝酸、硫酸、盐酸、BOE、氟化铵、氨水）等。
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