MC7000其它检验方法RCCM中文版法国民用核电标准.docx
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MC7000其它检验方法RCCM中文版法国民用核电标准
MC7000其它检验方法RCCM中文版法国民用核电标准
MC7100 目视检验
MC7110适用范畴
本节阐述了本规则第Ⅱ卷和（或）第1卷（有关篇第4000章）规定的目视检验方法检验表面缺陷的一样要求。
注：
MC7200规定了确定无损检验前表面状况是否已满足MC2100、MC3100、MC4100和MC5100中的要求的方法。
MC7120一样要求
MC7121 检验人员
负责目视检验的人员应从从事无损检验的人员中选择，或从熟悉被检验物件的制造和加工工艺的人员中选择。
MC7122目视检验文件
所有目视检验均应按照一系列适当确认的文件（规程、讲明书）的规定进行，这些文件应满足有关章节的要求，并至少包括以下内容：
——被检件的类型、形状及尺寸；
——参考的本规则有关章节及其它适用文件；
——检验设备：
放大镜、内窥镜等；
——检验条件：
被检验区域，表面状态，直截了当或间接的检验方法等。
——验收准则。
MC7130检验设备
MC7131直截了当目视检验
直截了当目视检验应用肉眼进行观看，必要时，使用最大放大倍数为6的放大镜。
MC7132间接目视检验
无法直截了当观看的区域，可采纳间接方法进行检验，如使用反射镜、内窥镜、复膜或其它合适的方法或仪器。
这些仪器的辨论能力至少应与直截了当目视检验相当。
MC7133对比试样
制造商能够提出将被检制件与（表面状态试样或基准标准以外的）对比试样进行目视比较的建议。
MC7140检验实施要求
MC7141 检验时刻
本规则第Ⅱ卷和（或）第1卷（有关篇的4000章）规定了在哪个制造时期进行目视检验。
MC7142检验区域
检验区域及检验范畴按照本规则第Ⅱ卷和（或）第1卷（有关篇第4000章）的规定。
MC7143检验条件
被检区域应没有任何阻碍检验观看和评定的杂物。
当检验表面能以正常方式接近时，则应采纳与表面大于30°的视角，于最大距离600mm处，进行检验。
被检验表面的照明亮度应不低于350lux（勒克司）。
MC7150检验报告
检验报告应包含下述内容：
——制造商、订货单及设备的标志；
——被检件、焊缝及被检区域的标志，应注明其钢号的简化符号；
——所采纳的目视检验技术规范的名称；
——检验时刻；
——采纳的方法；
——使用的设备；
——评定结果；
——检验员姓名；
——当检验由其它公司分包时，注明该分包商的名称；
——检验日期及检验员签名。
为了幸免不必要的重复，上述某些内容已在经适当认可的制造商文件中给出，可将其附在检验报告中。
MC7200表面状况测定
MC7210适用范畴
表面状况能够通过与触感和目视粗糙度对比试样进行比较，或用电子探测仪器及光学仪器进行测定。
本节阐述用于与触感和目视对比试样比较测定被检件表面状况的一样要求。
使用电子探测仪器测定表面粗糙度，应按照AFNOR参考文件NF E05-017的规定。
MC7220一样要求
应按照本节的要求评定表面状况。
MC7230检验设备
MC7231讲明
MC7231.1触感和目视粗糙度对比试样
触感和目视粗糙度对比试样应是按各种制造和加工工艺制做出的真实外形的复制件。
按照具体情形，这些试样能够包括，也能够不包括适合于每一种制造工艺的各种等级的粗糙度。
MC7231.2其它触感和目视粗糙度对比试样
这些试样由制造商按被检验件应达到的表面状况制作。
MC7232 表征
MC7232.1用粗糙度值表征的试样
代表机加工、磨制或喷丸零件的试样，其表面粗糙度用Ra值表征。
MC7232.2不用粗糙度值表征的试样
对每种加工工艺，这些试样可具有某一等级表面粗糙度，或具有被检件的表面粗糙度。
MC7240检验实施方式
MC7241 检验时刻
本规则第Ⅱ卷和（或）第1卷（有关篇的4000章）规定了在加工过程中的哪一时期进行表面状况测定。
MC7242检验区域
被检区域及检验范畴按照本规则第Ⅱ卷和（或）第1卷（有关篇4000章）的规定。
MC7243检验条件
MC7243.1清洁度
所有被检表面应干燥、清洁，无油污、油脂和涂层。
总的要求是：
把可能阻碍被检表面和对比试样作比较的所有异物清除掉。
MC7243.2照明
被检表面的照明亮度应不低于350lux（勒克司）。
MC7243.3注意事项
用某一指定加工方法制作的零件，应与按相当于同类加工工艺做出的几个粗糙度对比试样中的一个进行对比。
粗糙度值应采纳目视进行评定，在可能条件下采纳触感方法。
MC7244评定
零件表面状况应用下述方法进行评定：
——与粗糙度等级进行比较，或与粗糙度对比试样的表面状况进行比较；
——当采纳单一粗糙度对比试样时，与要求的粗糙度或表面状况进行比较。
MC7400泄漏检验方法
MC7410适用范畴
本节阐述适用于本规则规定的泄漏检验的一样要求。
MC7420一样要求
MC7421检验人员资格
应由按MC8000的规定取得资格证书的人员进行泄漏检验。
MC7422泄漏检验文件
所有泄漏检验应按照经适当认可的一系列文件的规定进行，这些文件应满足适用章节的要求，并至少包括以下内容：
——被检验件的名称、形状、尺寸、范畴、体积和所用材料；
——参考的本规则相应章节，及其它适用文件；
——检验设备及试剂：
检测仪、泵、压力计、真空计、其它装置，泄漏标定系统，示踪气体及所用制剂等；
——检验规程：
检验时刻，被检验件表面清洁度，所用每项技术的检验方法；
——验收准则；
——清洁方法（必要时）；
——检验人员资格。
注：
使用上述任1方法之前，制造商应确保泄漏检验所使用的流体（气体、液体）对涉及的表面无任何损害（参见第V卷F6000章）。
MC7430泄漏检验方法
MC7431方法的选择
选择所用泄漏检验方法应按照：
——所要求的灵敏度；所谓灵敏度即在规定检验条件下可探测出的最小泄漏。
——是否有必要对泄漏值进行运算；
——被捡件的几何形状、体积及材料；
——能否保持压力或真空；
——操作的难易程度。
检验方法应达到所得到的最小灵敏度符合表MC7432“现有检漏方法一览表”中的规定；此表按照特定标准所包括的方法的AFNOR标准NF A09—490。
MC7432单位选择
测量泄漏的法定单位是Pa m3／s。
作为信息，表MC7432列出了现仍在使用的单位间的换算关系。
MC7440检验实施方式
MC744l初始条件
容器或系统在要求的水压试验或气压试验合格后，仅能进行充气试验。
只有当设计规定时，容器才能抽真空。
MC7442开口处及系统的密封
披检验容器的开口处的密封或盲板及相连的系统和测量装置，应满足和容器本身同样的密封要求。
MC7443容器及回路的清洗
被检验容器及回路系统应经内外清洗，内外表面应除油并干燥。
承担高真空的容器应用通过滤的无油热风吹干，或表面热烘。
泄漏检验前，应去氧化皮和经酸洗钝化处理。
泄漏检验前的清洗要求应按照本规则其它章节中规定的最大承诺泄漏率确定。
MC7444 校验标定
要求使用标定泄漏的所有检漏方法，应确知检验时的有关泄漏率。
那个泄漏率至少两年校验一次。
MC7445程序
在NFA标准中所选的和在表MC7431中列举的某种方法的操作程序，与下述附加技术规范一起使用。
A．整体真空检漏法（HOOD—TEST）——NF A09—492
在充氦时刻至少为装置响应时咨询（等待NFA09—492的4.3节所规定的信号显现所花费的时刻）的3倍以后进行沉量，那个时刻至少为10分钟。
B．局部真空检漏法（PARTIAL HOODTEST）——NF A09—492
测量要求同A。
D．吸盘法（SUCTION CUP METHOD）——NF A09—492
在重复核验的情形下，氦能够通过贴在壁上的一个盒子施加。
能够通过让1标准参考泄漏量进入吸盘来进行标定，测量参考信号和等待时刻。
在充氦时刻至少为响应时刻的3倍后（最短为10分钟），开始测量泄漏。
F．吸气探头加压捡漏（SNIFFING PROBE PRESSURETEST）——NF A09—491
这是方法E的一种演变。
围绕可疑区移动吸气探头来定位泄漏。
L．累计真空罩法 NFA09—49l
这是方法E的一种演变。
除了压力容器要抽真空和它本身作为蓄气箱外，检验程序与该方法相同。
氦气是施加在其外边的。
M．加压隔离法
在时刻t后，测量压力的变化。
泄漏率能够通过下列公式运算：
L=（P*V）/t
式中：
V——容器体积；
L——泄漏率
必须考虑温度的变化，并进行必要的修正。
N．真空隔离法
与方法M相同。
MC7450检验报告
检验报告应包括以下内容：
——制造商、订货单及设备的名称和标识；
——被检零件、焊缝及区域的标识；
——检验文件的名称；
——检验时刻；
一一检验设备；
一一表面预备（表面状况和清洁度）；
一一检验要求，专门是标定和调整要求；
——评定结果；
——检验员姓名和资格；
——负责检验的分包商名称（必要时）；
——检验日期和检验员签名。
为了幸免不必要的重复，上述部分内容差不多在适当认可的一系列制造商文件中给出，可将其附在检验报告中。
表MC7431现有捡漏方法一览表
序号
名称
示踪气体
方法
设备
不适用
场合
灵敏度
（氦泄漏量）
评注
A
整体真空检漏法NF A09—492
氦
（He）
被检件与氦检测仪连接，抽真空。
然后将其放入充满氦气的塑料袋中。
氦检测仪、真空泵、氦注入器
不能承
受真空
的零件
10—10Pam3/s
定量精确，但不能用于定位。
B
局部真空检漏法NF A09—4 92
He
被检件抽真空，与He检测仪相连。
将有疑咨询的区域用充满He的塑料袋封包起来。
He检测仪、真 空泵。
同上
10—10Pam3/s
如表面未正确地标划栅格，有漏查某区的风险。
定量精确，能够定位
C
喷氦真空捡漏法NF A09—4 92
He
被检件抽真空，与He检测仪相连。
确定缺陷区位置后，在有疑咨询喷丸。
He检测仪，真空泵。
不能承
受真空
的 零
件。
仅用于确定泄漏位置
D
吸盘法NF A09—492
He
用示踪气体给被检件加压。
将内部形成真空的吸盘放置在被检件上，并与检测仪相连。
He检测仪、真空泵、气阱、专用 吸 盘。
不能承
压的零
件。
10—9Pam3/s
精确测量泄漏量并能确定泄漏位置。
设备安装较困难。
吸盘要小心操作，只适用于表面比较规则的被检件。
表MC7431现有捡漏方法一览表（续）
序号
名称
示踪气体
方法
设备
不适用
场合
灵敏度
（氦泄漏量）
评注
E
累积／吸气探
头法加压检漏
NF A09—491
He
H
SF6
被检件加压，有疑咨询处用乙烯塑料袋封装起来。
如被检件有泄漏，则在袋中累积。
封装一定时刻后，用吸气探头检测。
He，H
或SF。
检 测
仪、真
空泵、
气阱、
记录
仪。
不能承
压的零
件
5×
10—8Pam3/s
按照累计时刻
和袋中示踪气
体浓度的连续
记录测定泄漏
率。
定位精度
在20％以内。
F
吸气探头法
He
H
SF6
用示踪气体给被检件加压，有疑咨询处用吸气探头扫查
He、H
或SF6检 测仪、吸气探头、真
空泵、气阱、记录仪
不能承
压的零
什
10—7Pam3/s
泄漏定位
G
加压化学反应法
NF A09—106
NH3
被检件抽真
空，然后充
NH3气。
被检
区用与NH3接触起反应的
涂料或试带覆盖
真空
泵，涂
料喷枪
铜及其
合金。
不能承
受压力
的 零
件。
10—8Pam3/s
定位准确，定性测量。
是否需抽真空取决于所要求的灵敏度、湿度和决定最低浓度的压力。
NH3 的
体积比15～28％时有爆炸危险。
表MC7431现有捡漏方法一览表（续）
序号
名称
示踪气体
方法
设备
不适用
场合
灵敏度
（氦泄漏量）
评注
H
吸盘化学反应法
NF A09—108
NH3
将NH3引入固定于被检件一个壁面上的吸盘内，通过壁面另一侧渗出的NH3用适当的试剂显示出来，以此检测泄漏。
吸盘
铜及其
合金。
10—7Pam3/s
定性法、精定位。
用于检查开放零件壁的泄漏。
可检验大容量的小区域。
1
钟罩法NFA09-
108
空气
被检件涂以低粘度、低表面张力的液体，然后放入带有观看简的钟罩中。
当有泄漏时，所涂液体的会形成气泡。
真空罩及其配
套真空泵。
10—5Pam3/s
定性法、精定位
J
渗出检漏法
NFA09—493
He
被检件置于充有加压He的容器中。
当He渗入后再将其放入与He检测仪相连的真空室中。
He检测仪，真 空泵，专用真空泵
不能承担压力的 零件。
10—7Pam3/s
泄漏似然量
10—6Pam3/s
适用于批量生产的零件。
不能精定位。
泄漏量<10—6Pam3/s难测量。
He的滞留取决于表面粗糙度。
K
内压冒泡法
NFA09-
110
空气
N 2
被检件充压，然后在有疑咨询处涂上肥皂水或将其浸入加润湿剂的水中。
无专用
设备
不能承
压的零
件
10—5Pam3/s
精定位，定性。
表MC7431现有捡漏方法一览表（续）
序号
名称
示踪气体
方法
设备
不适用
场合
灵敏度
（氦泄漏量）
评注
L
累积真空罩法
He
被检件抽真空，与He检测仪相连，以
标定检测仪。
然后与检测仪密封隔开。
将被检件放入He中，经1预定的累计时刻后，再与He检测仪相连
He检
测仪，
真 空
泵，He
注入
器，He
记 录
仪。
10—11～
10—13Pam3/s
取决于累计时刻。
用于专门零
件。
定位难。
清洁要求严格。
要使用记录仪。
表面解吸限制使用。
检测慢。
限于体积小的零件。
在多孔壁上有He滞留的可能。
M
加压隔离法
空气
N2
被检件加压并密封。
经1预定时刻后，按照测得的压降评定总泄漏率。
压缩空
气，记
录式压
力计、
温度计。
不能承
压的零
件。
10—3Pam3/s
适用于大容积被检件，相当不准确的定量测量。
试验时温度变化应作修正。
N
真空隔离法
空气
被检件抽真空，并封闭。
经1预定的时刻后，按照测得的压力升高评定总泄漏率
真空泵、真空计、记录器、记录式温度计
不能承
压的零
件
10—4Pam3/s
适用于体积不大于数个dm3
的零件
表MC7432泄漏测量单位的换算
Pa·m3/s
Pa·cm3/s
Torrl/s
Lusec或
10—3Torrl/s
Atm·cm3/s
1Pa·m3/s
相当于
1
106
7.5
7.5×103
9.87
1Pa·cm3/s
相当于
10—6
1
7.5×10—6
7.5×10—3
0.987
×10—5
1Torrl/s
相当于
0.133
1.33×105
1
10—3
1.32
1Lusec或
10—3Torrl/s
相当于
1.33
×10—4
133
10—3
1
1.32×10—3
1Atm·cm3/s
相当于
0.1013
1.013×105
0.76
760
1
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