实验真空获得镀膜

1、北京科技大学 物理实验报告 低真空的获得,测量与用直流 实验报告 溅射法制备金属薄膜 学院 材料 班级 材料 1510 学号 41503000 姓名 张问 一实验目的与实验仪器实验目的: 1学习真空基本知识和真空的获得与测量技术基础知识. 。

2、一、实验目的与实验仪器实验目的：1）学习真空基本知识和真空的获得与测量技术基础知识。
2）学习用直流溅射法制备薄膜的原理与方法。
3）实际操作一套真空镀膜装置，使用真空泵和真空测量装置，研究该真空系统的抽气特性。
4）用直流溅射。

3、近物实验真空的获得和镀膜实验专题实验二: 真空的获得和镀膜实验真空镀膜,是指在真空中把蒸发源加热蒸发或用加速离子轰击溅射,沉积到基片固体表面形成单层或多层薄膜,使得固体表面具有耐磨损耐高温耐腐蚀抗氧化防辐射导电导磁绝缘和装饰等许多优于固体材。

4、按照气体空间的物理特性及真空技术应用特点，我们通常将真空划分为以下几个区域（见表1）：表1 真空区域的划分及其特点和应用真空区域粗真空低真空高真空超高真空极高真空范围（Pa）10510310310。

5、真空的获得和镀膜实验讲义x专题实验二: 真空的获得和镀膜实验真空镀膜,是指在真空中把蒸发源加热蒸发或用加速离子轰击溅射,沉积到基片固体表面形成单层或多层薄膜,使得固体表面具有耐磨损耐高温耐腐蚀抗氧化防辐射导电导磁绝缘和装饰等许多优于固体材料。

6、实验十二真空镀膜实验十二 真空镀膜引言在真空中使固体表面基片上沉积一层金属半导体或介质薄膜的工艺通常称为真空镀膜.早在19世纪,英国的Grove和德国的Plcker相继在气体放电实验的辉光放电壁上观察到了溅射的金属薄膜,这就是真空镀膜的萌芽。

7、整理4实验一真空镀膜讲义实验一 真空镀膜磁控溅射法制备金属薄膜引言所谓真空镀膜就是指在真空中将金属或金属化合物等沉积在基体表面上.从技术角度可分为40年代开始的蒸发镀膜,溅射镀膜和70年代才发展起来的离子镀膜束流沉积等四种.真空镀膜能在现代。

8、实验十二 真空镀膜实验十二 真空镀膜引言在真空中使固体表面基片上沉积一层金属半导体或介质薄膜的工艺通常称为真空镀膜.早在19世纪,英国的Grove和德国的Plcker相继在气体放电实验的辉光放电壁上观察到了溅射的金属薄膜,这就是真空镀膜的萌。