工序参数条件检验稽查项目剖析.docx
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工序参数条件检验稽查项目剖析
开料工序过程条件检验稽查项目
开料机参数条件
1、板材的材质(规格)
2、板材的厚度(千分尺)
3、铜箔的厚度(测铜仪)
4、板材按经纬向裁切(MI指示)
5、裁板尺寸大小(MI指示)
钻孔工序过程条件检验稽查项目
钻孔机参数条件
1、电压(AC380V)确认与冷却水(16-25℃)确认及气压确认
2、板材型号&版本与MI与程式型号&版本一致
3、钻刀直径检测、钻刀高度检测、钻次寿命
4、机器X、Y轴零位设定、Z轴深度设定
5、防呆钉确认、铝片盖板确认、木板确认、压力脚确认
6、Z轴钻速、钻刀进刀速、回刀速、
7、Z轴深度补偿值(见附表)
8、首件检验
电镀工序过程条件检验稽查项目
PTH前处理磨板机参数条件
1、各缸标准液位
2、PTH前处理磨板机速度(1.8-3.8m/min)
3、PTH前处理磨板机水洗上压压力(1.0-2.1kg/cm2)
4、PTH前处理磨板机水洗下压压力(1.0-2.1kg/cm2)
5、PTH前处理磨板机刷压电流(1.7-2.5A)
6、PTH前处理磨板机烘干温度(60±5℃)
7、PTH前处理磨板机磨痕宽度(8-14mm)
8、PTH前处理磨板机水破试验(≥10S不破)
PTH化学沉铜线参数条件
1、膨松液位(560L)、药水温度(65-75℃)、药水浓度(见附表)
2、除胶液位(1300L)、药水温度(70-80℃)、药水浓度(见附表)
3、中和液位(560L)、药水温度(常温)、药水浓度(见附表)
4、微蚀液位(560L)、药水温度(25-35℃)、药水浓度(见附表)
5、活化液位(560L)、药水温度(38-42℃)、药水浓度(见附表)
6、速化液位(560L)、药水温度(常温)、药水浓度(见附表)
7、沉铜液位(1500L)、药水温度(28-32℃)、药水浓度(见附表)
一铜化学镀铜线参数条件
1、酸洗缸液位、药水温度(常温)
2、一号铜缸液位(5500L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-30℃)
3、二号铜缸液位(5500L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-30℃)
4、三号铜缸液位(5500L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-30℃)
5、四号铜缸液位(5500L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-30℃)
6、五号铜缸液位(5500L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-30℃)
7、六号铜缸液位(5500L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-30℃)
8、七号铜缸液位(5500L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-30℃)
1、酸洗缸药水浓度(见附表)
2、一号铜缸药水浓度(见附表)
3、二号铜缸药水浓度(见附表)
4、三号铜缸药水浓度(见附表)
5、四号铜缸药水浓度(见附表)
6、五号铜缸药水浓度(见附表)
7、六号铜缸药水浓度(见附表)
8、七号铜缸药水浓度(见附表)
线路工序过程条件检验稽查项目
线路前处理磨板机参数条件
1、线路前处理磨板机各缸标准液位
2、线路前处理磨板机酸洗浓度(见线路磨板线药水控制表)
3、线路前处理酸洗上压(0.8-1.0kg/cm2)、下压(0.8-1.0kg/cm2)
4、线路前处理磨板机循环水洗压力(1.0-2.0kg/cm2)
5、线路前处理磨板机磨刷刷压电流(1.9-2.3A)
6、线路前处理磨板机加压水洗压力(2.0-2.5kg/cm2)
7、线路前处理磨板机烘干温度(1#70±4℃)(2#75±5℃)
8、线路前处理磨板机输送速度(1.5-2.0m/min)
9、线路前处理磨板机磨痕试验宽度(12-16mm)
10、线路前处理磨板机水破实验(≥15S不破)
无尘车间过程条件检验稽查项目
无尘车间手动压膜机参数条件
1、无尘车间温度(22±2℃)、无尘车间湿度(55±5RH%)
2、无尘车间灰尘等级(<100000级,按尘埃子3um计算)
3、干膜型号与MI一致
4、手动压膜温度(110±10℃)手动压膜速度(2.0-3.0m/min)
5、手动压膜压膜压力(3-5㎏/㎝2)
无尘车间自动压膜机参数条件
1、无尘车间温度(22±2℃)、无尘车间湿度(55±5RH%)
2、无尘车间灰尘等级(<100000级,按尘埃子3um计算)
三、干膜型号与MI一致
四、自动压膜压膜滚轮温度(110±10℃)
五、自动压膜压膜速度(2.5-3.5m/min)
六、自动压膜压膜压力(4.0-4.5㎏/㎝2)
七、自动压膜出板温度(45±5℃)
无尘车间曝光机参数条件
1、菲林黑区挡光系数(光密度>4.5Dax)
2、菲林白区透光系数(光密度<0.5Dax)
3、菲林对温湿度的膨胀系数
4、曝光机电压(AC380V)与冷却水温度(16-25℃)
5、曝光机台面温度(18-20℃)
6、曝光机均匀度(≥85%)
7、曝光机真空度(≥750mmHg)
8、曝光尺(7-9级)
线路显影机参数条件
1、各缸标准液位
2、显影机显影缸碳酸钠浓度(见线路显影线药水控制附表)
3、显影机显影缸碳酸钠温度(30±2℃)
4、显影机显影压力上压(1.5-2.0㎏/㎝2)下压(1.5-2.0㎏/㎝2)
5、显影机水洗压力上压(1.0-2.0㎏/㎝2)下压(1.0-2.0㎏/㎝2)
6、显影机烘干温度(55±5℃)
7、显影机输送速度(3.8-4.2m/min)显影点露铜计算(50-60%)
8、4H一次氯化铜试验
9、试验条件(浓度3-5%液体氯化铜)
10、实验结果(铜表面呈现棕褐色为正常)(铜表面呈现白色为异常)
中检工序过程条件检验稽查项目
AOI扫描机参数条件
1、中检环境条件温度(25±3℃)湿度(≤70RH%)
2、AOI扫描机电压(AC380V)
3、AOI扫描机照明系统
4、板材型号&版本与MI与程式资料型号&资料版本一致
5、显影首件扫描
电镀二铜线处理缸&铜缸参数条件
1、各缸标准液位
二、除油缸液位、药水浓度(见附表)、药水温度(35±4℃)
三、酸洗缸液位、药水浓度(见附表)、药水温度(常温)
四、微蚀缸液位、药水浓度(见附表)、药水温度(26±4℃)
1、一号铜缸液位(4800L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-28℃)
2、二号铜缸液位(4800L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-28℃)
3、三号铜缸液位(4800L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-28℃)
4、四号铜缸液位(4800L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-28℃)
5、五号铜缸液位(4800L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-28℃)
6、六号铜缸液位(4800L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-28℃)
7、七号铜缸液位(4800L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-28℃)
8、八号铜缸液位(4800L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-28℃)
9、九号铜缸液位(4800L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-28℃)
10、十号铜缸液位(4800L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-28℃)
11、十一号铜缸液位(4800L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-28℃)
12、十二号铜缸液位(4800L)、铜球至钛篮口、药水温度(20-28℃)
13、预浸缸液位、药水浓度(见附表)、药水温度(常温)
1、一号铜缸药水浓度(见附表)
2、二号铜缸药水浓度(见附表)
3、三号铜缸药水浓度(见附表)
4、四号铜缸药水浓度(见附表)
5、五号铜缸药水浓度(见附表)
6、六号铜缸药水浓度(见附表)
7、七号铜缸药水浓度(见附表)
8、八号铜缸药水浓度(见附表)
9、九号铜缸药水浓度(见附表)
10、十号铜缸药水浓度(见附表)
11、十一号铜缸药水浓度(见附表)
12、十二号铜缸药水浓度(见附表)
电镀二铜线锡缸参数条件
1、一号锡缸液位(4800L)、锡球至钛篮口、药水温度(20-28℃)
2、二号锡缸液位(4800L)、锡球至钛篮口、药水温度(20-28℃)
3、一号锡缸药水浓度(见附表)
4、二号锡缸药水浓度(见附表)
蚀刻工序过程条件检验稽查项目
退膜机参数条件
1、各缸液位标准
2、退膜缸药水浓度(见蚀刻线药水控制附表)
3、退膜缸药水温度(46±3℃)
4、退膜压力上压(1.0-3.0㎏/㎝2)下压(1.0-3.0㎏/㎝2)
5、退膜水洗上压(0.6-3.5㎏/㎝2)下压(0.6-3.5㎏/㎝2)
6、退膜机退膜速度(1.0-4.0m/min)
蚀刻机参数条件
1、各缸液位标准
2、蚀刻机药水浓度(见蚀刻线药水控制附表)
3、蚀刻机药水温度(48±2℃)
4、蚀刻比重(1.18-1.20Be°)
5、蚀刻上压(2.0-3.5㎏/㎝2)、下压(0.6-1.5㎏/㎝2)
6、蚀刻水洗上压(1.0-3.0㎏/㎝2)下压(1.0-3.0㎏/㎝2)
7、蚀刻输送速度(依铜箔厚度而定、生产首件为准)
8、蚀刻输送速度参考(H/H3.5-4.5m/min)(1/H2.5-3.5m/min)(2/H1.6-2.5m/min)
退锡机参数条件
1、各缸液位标准
2、退锡药水浓度(见蚀刻线药水控制附表)
3、退锡药水温度(27-33℃)
4、退锡缸上压(0.6-3.5㎏/㎝2)退锡缸下压(0.6-3.5㎏/㎝2)
5、退锡水洗上压(0.5-2.5㎏/㎝2)退锡水洗下压(0.5-2.5㎏/㎝2)
6、退锡烘干温度(70±5℃)
7、退锡速度(3.0-4.0m/min)
中检工序过程条件检验稽查项目
AOI扫描机参数条件
1、中检环境条件温度(25±3℃)湿度(≤70RH%)
2、AOI扫描机电压
3、AOI扫描机照明系统
4、板材型号&版本与MI与程式资料型号&资料版本一致
5、蚀刻首件扫描
防焊工序过程条件检验稽查项目
防焊前处理磨板机参数条件
1、防焊磨板机各缸标准液位
2、防焊磨板机酸洗药水浓度(见防焊药水控制附表)
3、防焊酸洗上压(0.4-0.6kg/cm2)下压(0.4-0.6kg/cm2)
4、防焊磨板机循环水洗上压(1.8-2.5kg/cm2)下压(1.8-2.5kg/cm2)
5、防焊磨板机磨刷刷压电流(1.9-2.3A)
6、防焊磨板机加压水洗上压(3.0-3.5kg/cm2)下压(3.0-3.5kg/cm2)
7、防焊磨板机烘干温度(90±5℃)
8、防焊磨板机输送速度(1.2-2.0m/min)
9、防焊磨板机磨痕试验宽度(8-14mm)
10、防焊磨板机水破实验(≥15S不破)
防焊无尘车间印刷参数条件
1、无尘车间温度(20±2℃)、无尘车间湿度(55±5RH%)
2、无尘车间灰尘等级(<100000级,按尘埃子3um计算)
3、油墨厂商、型号、颜色、规格与MI一致
4、油墨粘度按文件要求
5、网版T数按MI一致
6、网版张力18±2N与印刷压力(3.8kg/cm2)
7、印刷刮刀角度70-75∠°
8、印刷台面与网版高度(2-4cm)
防焊预烤参数条件
1、PCB单层预烤条件及参数(73℃×15-18m/min)
2、PCB双层预烤条件及参数(73℃×25-35m/min)
3、PCB多层预烤条件及参数(73℃×40-55m/min)
防焊无尘车间曝光参数条件
1、菲林黑区挡光系数(光密度>4.5Dax)
2、菲林白区透光系数(光密度<0.5Dax)
3、菲林对温湿度的膨胀系数
4、曝光机电压(AC380V)与冷却水温度(16-25℃)
5、曝光机台面温度(18-20℃)
6、曝光机均匀度(≥85%)
7、曝光机真空度(≥700mmHg)
8、曝光尺(依油墨颜色而定)
防焊显影线显影参数条件
1、各缸液位标准
2、显影机显影缸碳酸钠(Na2Co3)药水浓度(0.8-1.2%)
3、显影机显影缸温度(30±2℃)
4、显影机显影压力上压(1.0-2.5㎏/㎝2)下压(1.0-2.5㎏/㎝2)
5、显影机水洗压力上压(1.0-2.5㎏/㎝2)下压(1.0-2.5㎏/㎝2)
6、显影机烘干温度(45-50℃)
7、显影机输送速度(以生产首件为准)显影点露铜计算(50-60%)
8、4H一次氯化铜试验
9、试验条件(浓度3-5%液体氯化铜)
10、实验结果(铜表面呈现棕褐色为正常)(铜表面呈现白色为异常)
防焊后烤参数条件
1、PCB单层、双层、不塞孔参数条件(150℃×60min)
2、PCB多层、厚铜、塞孔参数条件
①段
75℃×45min
②段
85℃×30min
③段
95℃×15min
④段
110℃×15min
⑤段
150℃×60min
文字工序过程条件检验稽查项目
文字印刷参数条件
一、板子型号&版本与MI型号&版本一致
二、网版T数与MI一致
三、网版张力18±2N
四、油墨粘度按文件要求(350-420dPa.s)
五、印刷刮刀角度65--75∠°
六、油墨厂商、型号、颜色、规格、时间与MI指示一致
七、防呆钉确认
文字后烤参数条件
单面
150℃×15-25min
双面
150℃×25-30min
多层
150℃×30-40min
成型工序过程条件检验稽查项目
锣机参数条件
1、电压(AC380V)确认与冷却水(16-25℃)确认及气压确认
2、板材型号&版本与MI与程式型号&版本一致
3、锣刀直径检查、锣刀高度检测、锣次寿命
4、机器X、Y轴零位设定、Z轴深度设定
5、防呆钉确认、压力脚确认
6、首件确认(1H/3次抽检)
V-CUT参数条件
1、板材型号&版本与MI与程式型号&版本一致
2、V-CUT刀具角度与MI一致
3、V-CUT刀具距离与MI一致
4、V-CUT深度(依MI指示)(IPCII级)
5、首件确认(1H/3次抽检)
成品喷锡清洗机参数条件
1、输送輪干净
2、水洗喷淋无堵塞
3、清洗输送速度(1.0-1.5m/min)
4、热风烘干温度(65±5℃)
成品化金&OSP清洗机参数条件
1、各缸液位标准
2、酸洗缸药水(H2sO4)浓度(1%)
3、酸洗上压(0.5-1.0kg/cm2)酸洗下压(0.5-1.0kg/cm2)
4、循环水洗上压(0.5-2.0kg/cm2)
5、循环水洗下压(0.5-2.0kg/cm2)
6、高压水洗上压(1.0-3.0kg/cm2)
7、高压水洗下压(1.0-3.0kg/cm2)
8、化金&OSP清洗机输送速度(2.0-3.0m/min)
9、化金&OSP清洗机烘干温度(80±5℃)
成测工序过程条件检验稽查项目
1、板材型号&版本与MI与程式型号&版本一致
2、板材型号与治具型号一致
3、成测测试电压(250V)
4、成测测试导通阻抗(50Ω)
5、成测测试绝缘阻抗(5MΩ)
6、成品测试气压(5-8kg/cm2)
PTH化学沉铜线药水浓度附表
PTH沉铜线
药水浓度控制范围
膨松缸
SW-01A
28-32%
除胶缸
KMnO4
45-65%
K2MnO4
≤25g/L
NaOH
0.9-1.1N
除胶速率
0.15-0.35mg/cm2
预中和缸
H2sO4
2-4%
H2O2
2-4%
中和缸
N-03
1.8-3.6N
H2sO4
1.8-3.6N
微蚀缸
SPS
60-100g/L
H2sO4
CU2+
≤25g/L
微蚀速率
40-80U″
活化缸
AT-140
60-100%
PD-130
1.083-1.116
酸度
0.5-0.7N
加速缸
AC-150
0.3-0.8
CU2+
<1g/L
沉铜缸
CU2+
1.6-2.2g/L
NaOH
10-12g/L
HcHO
5-7g/L
一铜化学镀铜线药水控制附表
一铜线
缸名&药水浓度控制范围
酸洗缸
H2sO43-5%
一号铜缸
CuSO.5H2O60-80g/L
H2sO4170-220g/L
CL-60±20PPM
二号铜缸
三号铜缸
四号铜缸
五号铜缸
六号铜缸
七号铜缸
线路磨板机酸洗&显影线药水控制附表
磨板机
缸名&药水控制范围
酸洗缸1#
H2sO43-5%
酸洗缸2#
H2sO43-5%
显影机
显影缸1#
Na2Co30.8-1.2%
显影缸2#
Na2Co30.8-1.2%
二铜化学镀铜线药水控制附表
二铜线
缸名&药水控制范围
除油缸
AC-22A10%
酸洗缸
H2sO43-5%
微蚀缸
SPS50-70g/L
镀铜预浸缸
H2sO410%
一号铜缸
CuSo.5H2O65g/L
H2sO4180g/L
CL-60PPM
RW-PSM5ml/L
二号铜缸
三号铜缸
四号铜缸
五号铜缸
六号铜缸
七号铜缸
八号铜缸
九号铜缸
十号铜缸
十一号铜缸
十二号铜缸
镀锡预浸缸
H2sO45%
一号锡缸
SnSO435g/L
H2sO4180g/L
RW-CP310ml/L
二号锡缸
蚀刻线药水控制附表
蚀刻线
药水控制范围
退膜机
NaoH
5-7%
蚀刻机
CU2+
130-150g/L
CL-
170-190g/L
S.G
1.18-1.20Be°
PH
7.9-8.8
退锡机
酸度
3.5-5.5N
防焊磨板机&显影线药水控制附表
磨板机
缸名&药水控制范围
酸洗缸1#
H2sO43-5%
显影机
显影缸1#
Na2Co30.8-1.2%
显影缸2#
Na2Co30.8-1.2%
钻机钻速&进刀速&回刀速